兰州大学学报(自然科学版)

2001, (05) 23-29

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沉积温度对BC_2N薄膜的生长和附着性的影响
The Effect of Deposition Temperature on the Growth and Adhesion of BC_2N Thin Films

马锡英,贺德衍,陈光华

摘要(Abstract):

应用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法在硅、金刚石衬底上合成了 BC2 N薄膜 .X-射线衍射、红外谱分析表明较高的温度有利于 BC2 N化合物的成核和生长 .高温制备的薄膜的化学组分主要为 BC2 N,B,C和 N原子间互相结合成键 ,但与硅衬底的附着力很差 .选择热膨胀系数与硅接近的金刚石作为过渡层沉积 BC2 N多层膜时 ,逐层提高生长温度 ,不仅提高了薄膜中 BC2 N的含量 ,而且提高了薄膜与衬底的粘附力

关键词(KeyWords): BC2N;不同衬底;化学气相沉积法

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 兰州大学博士启动基金 (870 883)资助项目

作者(Author): 马锡英,贺德衍,陈光华

DOI: 10.13885/j.issn.0455-2059.2001.05.005

参考文献(References):

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